정부대전청사 전경[연합뉴스 자료사진]

(서울=연합뉴스) 유의주 기자 = 한국과 중국이 고품질 특허를 서로 빠르게 취득할 수 있는 길이 열리고, 상표 보호를 위한 정부 간 협력 인프라가 확충되는 등 양국 간 지식재산권 보호 환경이 개선된다.

박원주 특허청장은 30일 서울 광진구 그랜드워커힐 호텔에서 션창위 중국 국가지식산권국장과 회담을 하고, 한중 지재권 협력을 확대하기 위한 다양한 협력사업에 합의했다.

먼저 한중 간 특허 공동심사프로그램(CSP)이 내년 1월 1일부터 시행된다.

CSP는 양국에 동일 발명을 특허출원한 출원인의 신청이 있을 때 양국 특허청 간 선행기술정보를 공유하고, 다른 출원 건보다 우선해서 심사해 주는 프로그램이다.

이 프로그램을 활용하면 한국과 중국에 공통으로 출원되는 특허가 고품질 심사로 빠르게 등록돼 보호받게 된다.

내년 1월 한중 CSP가 개시되면 한국은 중국과 CSP를 시행하는 첫 국가가 된다.

현재 전 세계적으로 시행 중인 CSP는 한미(2015년 9월), 미일(2015년 8월) 뿐이다.

양국 청장은 '상표' 분야와 '지재권 보호' 분야의 협력 체계도 새롭게 구축하기로 합의했다.

이 합의로 우리 기업의 협력 수요가 많은 상표와 지재권 보호 분야 협력이 한층 강화될 전망이다.

세부적인 사항으로는 먼저 '상표 전문가회의'와 '지재권 보호 전문가회의'가 신설된다.

상표 심사와 관리에 필수 정보인 상표 공보 데이터와 유사군코드 대응표 교환에도 합의했다.

이 같은 정보 교환 확대는 한중 간 상표출원이 큰 폭으로 증가하는 상황에서 기업들의 상표권 관리와 보호에 많은 도움이 될 것으로 기대된다.

지난해 우리나라에서 중국으로 출원된 상표는 1만6천건, 중국에서 한국으로 출원된 상표는 4천900건에 달했다.

박원주 청장은 "중국은 우리의 최대 교역 파트너로 그만큼 국내 기업의 지재권 보호 수요가 많은 국가"라며 "양국 기업이 더 편리하게 권리를 얻고, 획득한 권리는 더 강하게 보호받도록 협력 체계를 구축할 것"이라고 밝혔다.

yej@yna.co.kr